第二百九十九章 摩尔定律你听说过没有（2/3）
再至于被誉为“皇冠上的明珠”的光刻机，使用的是13.3纳米的极紫外光源，它的出现时间已经要算到2010年之后了。
时下，线光源还是集成电路制造中使用的主流光源。i线光源光刻机已经问世，但还没有得到大规模推广。至于r，实验室概念已经提出来了，真正投入使用，还得是十年后的事情。
光刻的原理，与冲洗照片是一样的。首先，要把电路图制作成底片，称为掩膜。光源通过掩膜照射在涂了光刻胶的芯片基材上。
光刻胶由树脂、感光剂、溶剂和添加剂组成，其中的感光剂在光线照射下会发生反应，使曝光区的光刻胶溶解，这就相当于把掩膜上的电路图案复制到了芯片基材上。
随后，再进行蚀刻、离子注入、封装等操作，一枚芯片就制作完成了。
光刻胶中感光剂的选择，与光源是密切相关的，这涉及到化合物在不同波长光线作用下的变化，机理十分复杂。
徐云是知道这些概念的。他原本就是物理系的学生，枫林研究所聘请他的老师前来参与这个项目，就是因为其中涉及到一些光学方面的问题。他在项目组里耳濡目染了这么久，对于这些问题自然是非常了解的。
听到高凡的问题，徐云也只能把心里那些杂念抛开，认真地答道：“我们现在研究的重点，就是线光刻胶，这也是目前应用最广泛的。
“i线光刻胶这方面，毕主任在实验室会议上提过几次，让大家有时间做一些积累，不过目前条件还不成熟。再至于说r光刻胶，好像国外也刚刚开始研究吧？”
“你说i线光刻胶的条件不成熟，是指什么？”高凡问道。
徐云道：“不是我说的，而是毕主任说的。现在国内根本就没有使用i线光源的光刻机，国外也不多，研究i线光刻胶，是不是有些操之过急了？”
“我想跟你说的，就是这个。”高凡说，“对了，徐师兄，摩尔定律你听说过没有？”
“当然听说过。”徐云不忿地说，“不就是集成电路上的晶体管数量，每两年就增加一倍吗？我们好几个老师上课的时候都提过。”
“不愧是科大，思维很前卫。”高凡翘个大拇指，赞了一句，却换来了徐云一个白眼。
摩尔定律是1965年提出的，不过直到70年代中期才受到人们的重视。随着集成电路技术的迅猛发展，摩尔
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